1、

After thermal annealing about 60 % of radiation damage induced by implantation can be restored.

在热退火后,约60%的注入引起的辐射损伤可以得到恢复.

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2、

The temperature and thermal stresses are important parameters in the process of bell type annealing.

温度和热应力是罩式退火过程中的两个重要参数.

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3、

Investigation on Annealing Thermal Process of HPH Furnace ( I): Mathematical Model

全氢罩式退火炉退火热过程的研究(Ⅰ)&数学模型及其实测验证

互联网摘选

4、

The purpose of float glass annealing is to reduce or eliminate thermal stress in required value.

浮法玻璃退火的目的是消除或减小玻璃中的热应力.

互联网摘选

5、

Study of IMA depth profile thermal annealing effect on distribution of B implanted in silicon crystals

IMA深度剖面图的研究热退火对硅中注入硼分布的影响

互联网

6、

Titanium films are deposited on Si wafers by electron-beam evaporation in vacuum, the base pressure of the system is 10-7 Torr. Solid phase reaction results through rapid thermal annealing.

钛膜在10~(-7)Torr真空中用电子束蒸发沉积在硅单晶片上,以快速热退火方式进行团相反应。

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